BTE-PECVD是我公司研发的一款单温区的PECVD管式炉系统，它是由射频电源系统，加热系统、多通道质子混气系统和真空系统组成。此款PECVD系统对于生长纳米线、石墨烯或SiC薄膜是一个很好的实验帮手。产品特点

1.该设备生长温度更低

2.使用滑轨炉实现快速升温和降温，沉积速率快

3.设备辉光均匀等效，均匀生长，成膜质量好

4.支持外部真空规和压力变送器

5.支持智能进气，根据需要设定不同的温度，自动进气，进气定时间到后自动停止进气

6.支持云端数据存储，随时查看数据

7.支持炉膛移动速度调节

8.支持射频电源根据外部工况条件自动启动停止

9.支持压力恒定，压力可以设定

10.支持超压保护，压力值可以设定，超过后系统自动进入保护状态